對于超疏水自清潔或超親水自清潔的研 究頗多，而對于既具有超疏水性又具有超親水性的 材料研究鮮少。WANG 發(fā)現(xiàn)納米 TiO2薄膜在無 紫外光照射下水接觸角為幾十度，經紫外光照射一段時間后接觸角下降至接近 0°，由疏水轉變?yōu)槌? 親水。利用納米TiO2在紫外線條件下由疏水轉 變?yōu)橛H水的特性，制備了超疏水和超親水相結合的納 米TiO2涂層，并研究各因素對自清潔性能的影響。上海中晨數(shù)字技術設備有限公司接觸角測量 儀，上海嘉鵬科技有限公司 ZF 型紫外透射反射分 析儀，鞏義市予華儀器有限責任公司 82-5 型磁力 攪拌器，天津市泰斯特儀器有限公司 101-1A 型電 熱鼓風干燥箱。

    涂層的接 觸角下降程度相似，而氟硅烷質量分數(shù)為 0.25%的 涂層接觸角下降率較大，所以在一定范圍內氟硅烷 含量越小，其自清潔性越好；在相同時間內，254 nm 紫外波長照射下的水接觸角比 365 nm 波長下的水 接觸角變化大。因此，在 254 nm 紫外波長照射條 件下，氟硅烷質量分數(shù)為0.25%的納米TiO2/氟硅烷 涂層的自清潔性較好。制備了不同含量氟硅烷的納米 TiO2/氟硅烷 涂層在紫外光照射下都能由超疏水轉變?yōu)槌H水， 在一定范圍內氟硅烷含量越小，其自清潔性越好， 此納米TiO2/氟硅烷涂層具有優(yōu)良的自清潔性能。經正交試驗極差計算分析得出，在 254 nm 紫外波長光照下，對自清潔性影響程度為紫外光照 時間>基材>納米 TiO2含量；在 365 nm 紫外波長條 件下對自清潔性影響程度為基材>紫外光照時間> 納米TiO2含量。